XRD and electrochemical results for MoO3 films deposited using pulsed laser deposition system - Open Research Data - MOST Wiedzy

Twoje konto

zaloguj

Wyszukiwarka

XRD and electrochemical results for MoO3 films deposited using pulsed laser deposition system

Opis

The attached data contains XRD and electrochemical results for MoO3 films deposited on fluorine-doped tin oxide glasses. Films were deposited using a pulsed laser deposition system at different conditions. Part of the samples was deposited at room temperature and then annealed at 575°C for given times (samples labeled PLD_RT_575C_xmin, where x stands for annealing time). Other samples were deposited at 450°C (PLD_450C) in different gas atmospheres. Electrochemical measurements were performed in 1 M AlCl3 aqueous solution with a 2.5 mV/s scan rate.

Plik z danymi badawczymi

PLD_MoO3.zip
181.4 kB, S3 ETag 124ff85308490a6febddec8eb0b421ff-1, pobrań: 51
Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
pobierz plik PLD_MoO3.zip

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:
Creative Commons: 0 1.0 otwiera się w nowej karcie
CC 0
Przekazanie do Domeny Publicznej

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:
2023
Data zatwierdzenia:
2023-07-03
Data wytworzenia:
2023
Język danych badawczych:
angielski
Dyscypliny:
  • nauki chemiczne (Dziedzina nauk ścisłych i przyrodniczych)
DOI:
Identyfikator DOI 10.34808/8dvd-d053 otwiera się w nowej karcie
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 148 razy