Study of antistatic properties of TiO2:Tb and TiO2:(Tb,Pd) thin films obtained by magnetron sputtering process
Abstrakt
Praca zawiera opis metody pomiaru właściwości antystatycznych cienkich warstw wraz ze zdefiniowaniem kryteriów antystatyczności powierzchni. przedstawiono wyniki pomiarów czasów rozładowywania się warstw tlenkowych. materiały wytworzono metodą rozpylania magnetronowego.
Autorzy (6)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Aktywność konferencyjna
- Typ:
- publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
- Tytuł wydania:
- International optoelectronics workshop/ Proceedings of 2009 International Students and Young Scientists Workshop: Photonics and Microsystems, Wernigerode 25-27.06.2009 strony 59 - 63
- Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2009
- Opis bibliograficzny:
- Mazur M., Sieradzka K., Domaradzki J., Łapiński M., Górnicka B., Zieliński M.: Study of antistatic properties of TiO2:Tb and TiO2:(Tb,Pd) thin films obtained by magnetron sputtering process// International optoelectronics workshop/ Proceedings of 2009 International Students and Young Scientists Workshop: Photonics and Microsystems, Wernigerode 25-27.06.2009/ ed. eds. Jaroslaw Domaradzki, Karolina Sieradzka, Maciej Zielinski Piscataway, NJ: IEEE, 2009, s.59-63
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 66 razy
Publikacje, które mogą cię zainteresować
Mobility measurements in oxide semiconductors
- E. Prociów,
- M. S. Łapiński,
- J. Domaradzki
- + 3 autorów
2009
Opis metody określania stopnia zwilżalności powierzchni cienkich warstw na przykładzie TiO2
- D. Wojcieszak,
- D. Kaczmarek,
- J. Domaradzki
- + 2 autorów
2009