Wyszukiwarka
Opis
Gold nanostructures were prepared on silicon - Si(111) as a substrate. The substrates (1 × 1 cm2 of area) were cleaned with acetylacetone and then rinsed in ethanol. Thin Au films (with thicknesses in a range of 1.7–5.0 nm) were deposited using a table-top dc magnetron sputtering coater (EM SCD 500, Leica) under pure Ar plasma conditions (Argon, Air Products 99.999%). The Au target had 99.99% purity, the rate of Au layer deposition was about 0.4 nm·s−1 and the incident power was 32 W. The thickness of the films was measured in situ by a quartz crystal microbalance. To analyze the surface morphology of the samples, a FEI Quanta FEG 250 scanning electron microscope (SEM) operated at 10 kV was used. Samples with 1.2, 1.5 and 3.4 nm of initial Au layer anealed at 550 deg for 5, 10 and 15 minutes were measured.
Plik z danymi badawczymi
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-07-26
- Data wytworzenia:
- 2021
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/xbns-wn33 otwiera się w nowej karcie
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 52 razy