SEM images of tge gold nanostructures on silicon - Open Research Data - MOST Wiedzy

Twoje konto

zaloguj

Wyszukiwarka

SEM images of tge gold nanostructures on silicon

Opis

Au nanostructures were prepared on Si(111) as a substrate. The substrates (1 × 1 cm2  of area) were cleaned with acetylacetone and then rinsed in ethanol. Thin Au films (with thicknesses in a range of 1.7–5.0 nm) were deposited using a table-top dc magnetron sputtering coater (EM SCD 500, Leica) under pure Ar plasma conditions (Argon, Air Products 99.999%). The Au target had 99.99% purity, the rate of Au layer deposition was about 0.4 nm·s−1 and the incident power was 32 W. The thickness of the films was  measured in situ by a quartz crystal microbalance. To analyze the surface morphology of the samples, a FEI Quanta FEG 250 scanning electron microscope (SEM) operated at 10 kV was used. Samples with 1.2 nm of initial Au layer were anealed at 600 deg for 5, 10 and 15 minutes were measured.

Plik z danymi badawczymi

1_2nm.zip
8.1 MB, S3 ETag 9105bee8e7e7c151d340e9521943b80d-1, pobrań: 6
Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
pobierz plik 1_2nm.zip

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:
Creative Commons: by 4.0 otwiera się w nowej karcie
CC BY
Uznanie autorstwa
Dane surowe:
Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:
2021
Data zatwierdzenia:
2021-07-26
Data wytworzenia:
2021
Język danych badawczych:
angielski
Dyscypliny:
  • inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
DOI:
Identyfikator DOI 10.34808/crpn-zp11 otwiera się w nowej karcie
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 41 razy