XRD analysis of the tellurium dioxide thin films

Opis

Tellurium dioxide thin films were deposited by magnetron sputtering method. The XRD analysis of the films annealed at 200, 500, 650 and 700 celsius degree showed appearing of crystalline phase in a higher temeratures.

Plik z danymi badawczymi

Te.zip

684.1 kB, S3 ETag 77920f2059967c16fb64ecb614cf453a-1, pobrań: 5

Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

pobierz

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:: otwiera się w nowej karcie

CC BY

Uznanie autorstwa
Dane surowe:: Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Oprogramowanie:: origin

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:

2021

Data zatwierdzenia:

2021-06-24

Data wytworzenia:

2019

Język danych badawczych:

angielski

Dyscypliny:

inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)

DOI:

10.34808/nhbk-7448

Weryfikacja:

Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

Autorzy

Marcin Stanisław Łapiński dr inż.
Instytut Nanotechnologii i Inżynierii Materiałowej
numer orcid 0000-0002-3283-2886otwiera się w nowej karcie
Twórca

wyświetlono 52 razy

Wyszukiwarka