XRD analysis of the tellurium dioxide thin films - Open Research Data - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

XRD analysis of the tellurium dioxide thin films

Opis

Tellurium dioxide thin films were deposited by magnetron sputtering method. The XRD analysis of the films annealed at 200, 500, 650 and 700 celsius degree showed appearing of crystalline phase in a higher temeratures.

Plik z danymi badawczymi

Te.zip
684.1 kB, S3 ETag 77920f2059967c16fb64ecb614cf453a-1, pobrań: 34
Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
pobierz plik Te.zip

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:
Creative Commons: by 4.0 otwiera się w nowej karcie
CC BY
Uznanie autorstwa
Dane surowe:
Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Oprogramowanie:
origin

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:
2021
Data zatwierdzenia:
2021-06-24
Data wytworzenia:
2019
Język danych badawczych:
angielski
Dyscypliny:
  • inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
DOI:
Identyfikator DOI 10.34808/nhbk-7448 otwiera się w nowej karcie
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

wyświetlono 98 razy