Search
Abstract
Przedstawiono wybrane wyniki pomiarów natężenia pola elektromagnetycznego w obiekcie przemysłowym, w którym znajdują się urządzenia produkcyjne bardzo dużej mocy. Oszacowano poziom natężenia pola składowych elektrycznej i magnetycznej w wybranych punktach pomiarowych. W badanym środowisku w zakresie małych częstotliwości występuje pole elektryczne o pomijalnie małej intensywności. Natomiast zaobserwowano dużą dynamikę zmian poziomu natężenia pola ma-gnetycznego zarówno w zależności od miejsca jak i czasu wykonywania pomiarów. Zmiany te występowały w obszarach występowania pola magnetycznego o bardzo dużej intensywności. Na drodze pomiarów zlokalizowano źródła silnego pola magnetycznego w zakresie małych częstotliwości o widmie, którego przebieg jest typu 1/f.
Authors (3)
Cite as
Full text
full text is not available in portal
Keywords
Details
- Category:
- Articles
- Type:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Language:
- Polish
- Publication year:
- 2005
- Bibliographic description:
- Galla S., Pałczyńska B., Spiralski L.: Pomiary natężenia pola elektromagnetycznego małych częstotliwościw obiektach przemysłowych // . -., (2005),
- Verified by:
- Gdańsk University of Technology
Referenced datasets
seen 74 times