Wyniki wyszukiwania dla: LCVD - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Wyniki wyszukiwania dla: LCVD

Najlepsze wyniki w katalogu: Potencjał Badawczy Pokaż wszystkie wyniki (18)

Wyniki wyszukiwania dla: LCVD

  • Zespół Metrologii i Optoelektroniki

    * komputerowo wspomagana metrologia i diagnostyka * projektowanie systemów * mikrosystemów i makrosystemów elektronicznych * testowanie i diagnostyka elektroniczna * pomiary właściwości szumowych i zakłóceń * spektroskopia impedancyjna * telemetria i telediagnostyka internetowa * katedra redaguje Metrology and Measurement Systems * kwartalnik PAN znajdujący się na liście JCR

  • Katedra Elektrochemii, Korozji i Inżynierii Materiałowej

    Badania realizowane przez pracowników Katedry obejmują w szczególności: zjawiska i procesy elektrochemiczne, podstawy korozji i zabezpieczenie przed korozją, inżynierię materiałowa, fizykochemię powierzchni. W Katedrze Elektrochemii, Korozji i Inżynierii Materiałowej realizowanych jest szereg kierunków związanych z badaniami podstawowymi jak i techniczno-technologicznymi. Głównymi obszarami działalności naukowej są: badania mechanizmu...

  • Zespół Katedry Wytrzymałości Materiałów

    Katedra zajmuje się zagadnieniami związanymi z wytrzymałością elementów konstrukcji, ich teorią oraz analizą, jak również do myśli przewodnich należy zaliczyć materiałowe badania doświadczalne oraz prace nad technologią betonu. Współpracujemy z przemysłem z branż budowlanych i okołobudowlanych, wykorzystując wypracowane doświadczenie i wiedzę z zakresu materiałów konstrukcyjnych i budowlanych.

Najlepsze wyniki w katalogu: Oferta Biznesowa Pokaż wszystkie wyniki (6)

Wyniki wyszukiwania dla: LCVD

Pozostałe wyniki Pokaż wszystkie wyniki (138)

Wyniki wyszukiwania dla: LCVD

  • Influence of LCVD technologicalparameters on propertiesof polyazomethine thin films

    Publikacja

    - Rok 2009

    Purpose: The aim of this paper is to show influence of technological parameters (temperature and gas streamintensity) of low-temperature chemical vapour deposition (LCVD) on optical properties and morphology ofpolyazomethine thin films.Design/methodology/approach: Thin layers of poly (1,4-phenylene-methylenenitrilo-1,4-phenylenenitrilo-methylene) (PPI) were prepared by low temperature LCVD method with use of argon as a transport...

  • RAMAN DIAGNOSTICS OF CVD DIAMOND GROWTH

    Publikacja

    - Rok 2012

    Development of Raman spectroscopic system for diagnostics of growth of diamond and BDD (Boron- Doped-Diamond) thin films during μPA CVD (Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) process is described. Raman studies of such films were carried out as in-situ monitoring of film deposition as ex-situ measurements conducted for a sample outside the reaction vessel after manufacturing process. Modular system for the in-situ...

    Pełny tekst do pobrania w portalu

  • Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej. Diagnostics of CVD process by means of optical emission spectroscopy.

    Publikacja

    Zastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania z par gazowych wspomaganego plazmą mikrofalową (mPACVD). Zbudowano tor światłowodowy, umożliwiający sprzężenie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne...

  • Optical metrology for high fidelity LCD-TV

    Publikacja

    - Rok 2005

    W pracy przedstawiono aktualny stan metrologii optycznej wyświetlaczy ciekłokrystalicznych (LCD) i omówiono niedoskonałości obecnych technik pomiarowych występujące w charakteryzacji wyświetlaczy o wysokiej wierności odwzorowania. Zaprezentowano urządzenia, procedury pomiarowe i metody obróbki danych umożliwiajace obiektywną ocenę właściwości ciekłokrystalicznych odbiorników telewizyjnych.Metody te umożliwiają identyfikację artefaktów...

  • System optoelektroniczny do kontroli procesów μPA CVD

    Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monitorowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych...

    Pełny tekst do pobrania w portalu