Depth profile of the chemical composition of the Au-Ag multilayers - Open Research Data - MOST Wiedzy

Twoje konto

zaloguj

Wyszukiwarka

Depth profile of the chemical composition of the Au-Ag multilayers

Opis

Silver and gold multilayers were deposited on a silicon substrate by magnetron sputtering method. Both type, Au and Ag thin films had 2 nm of thickness. Totally structure had thickness of 6 nm (Au-Ag-Au). That prepared multilayers were measured by XPS method. To obtain a depth profile of chemical composition, an Argon ion (Ar+) gun was used for etching surface of sample. Each cycle of etching takes 60 sec. It was repeated 6 times. As a result of etching, and simultaneous XPS measurements a profile of concentration. For measurements XPS UHV system, Omicron Nanotechnology, equpied with Ar ion gun was used.

Plik z danymi badawczymi

wielowarstwa au ag xps.opj
204.2 kB, S3 ETag 8e9eb4a7ed856c6334660024b5c1d01e-1, pobrań: 49
Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:
Creative Commons: by 4.0 otwiera się w nowej karcie
CC BY
Uznanie autorstwa
Dane surowe:
Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Oprogramowanie:
origin

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:
2021
Data zatwierdzenia:
2021-07-14
Data wytworzenia:
2019
Język danych badawczych:
angielski
Dyscypliny:
  • inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
DOI:
Identyfikator DOI 10.34808/3jz5-mq25 otwiera się w nowej karcie
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 87 razy