The scanning electron microscopy (SEM) studies of low voltage copper cables

Opis

The dataset contains the scanning electron microscopy (SEM) images of the low voltage copper cables, which were studied in the article discussing the regulatory requirements for checking the electrical resistance of such cables. The cables were cut and studies in cross-section. The full results were published in:

Olesz, M., & Ryl, J. (2013). BADANIE REZYSTANCJI ELEKTRYCZNEJ ŻYŁ WYBRANYCH PRZEWODÓW. Zeszyty Naukowe Wydziału Elektrotechniki I Automatyki Politechniki Gdańskiej, 35, 35-38.

The VP-SEM Hitachi S-3400N microscope was utilized, studying the cross-section topography using secondary electron mode, at 20 kV accelerating voltage. Magnifications used: 50 - 10000x.

Plik z danymi badawczymi

resistance-sem.zip

31.2 MB, S3 ETag 1b100258589d997b1ded1763d6afcc9d-1, pobrań: 72

Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

pobierz

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:: otwiera się w nowej karcie

CC BY

Uznanie autorstwa
Dane surowe:: Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:

2013

Data zatwierdzenia:

2021-04-27

Język danych badawczych:

angielski

Dyscypliny:

inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
Automatyka, elektronika i elektrotechnika (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)

DOI:

10.34808/j6v6-dg64

Weryfikacja:

Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Powiązane zasoby

publikacja BADANIE REZYSTANCJI ELEKTRYCZNEJ ŻYŁ WYBRANYCH PRZEWODÓW

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 164 razy

Wyszukiwarka