X-Ray diffraction of the metallic nanostructures

Opis

Metallic nanostructures (gold and silver) were manufactured as a thermal annealing of gold or silver thin film. Gold films with thickness of 2.8 nm were deposited on a silicon substrates using a table-top dc magnetron sputtering coater (EM SCD 500, Leica), equipped with quartz microbalance for in-situ thickness measurements. Films were deposited from high purity (99.99%) gold or silver targets in pure Argon plasma. Thermal treatment of metallic thin film resulted in forming spherical isolated islands. XRD investigations (X'Pert diffractometer, using CuKα radiation in a range of 10°–70° of 2θ) showed an epitaxial growth of the structures. The crystallographic structure of metallic nanostructures repeat structure of silicon substrate.

Plik z danymi badawczymi

XRD.zip

316.6 kB, S3 ETag c072b8de3e74408d1b8e0ea834426a84-1, pobrań: 41

Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

pobierz

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:: otwiera się w nowej karcie

CC BY

Uznanie autorstwa
Dane surowe:: Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Oprogramowanie:: origin

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:

2021

Data zatwierdzenia:

2021-06-24

Data wytworzenia:

2017

Język danych badawczych:

angielski

Dyscypliny:

inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)

DOI:

10.34808/ctbw-ab05

Weryfikacja:

Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Cytuj jako

Autorzy

Marcin Stanisław Łapiński dr hab. inż.
Instytut Nanotechnologii i Inżynierii Materiałowej
numer orcid 0000-0002-3283-2886otwiera się w nowej karcie
Twórca

wyświetlono 122 razy

Wyszukiwarka