Wyszukiwarka
High-performance temperature control system for resistance furnace annealing and crystal growth of semiconductor compounds
Abstrakt
Cytowania
-
6
CrossRef
-
0
Web of Science
-
9
Scopus
Autorzy (3)
-
R. Surus
-
K. Strzałkowski
-
T. Tarczewski
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
Results in Engineering
nr 17,
ISSN: 2590-1230 - ISSN:
- 25901230
- Rok wydania:
- 2023
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.rineng.2022.100863
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 1 razy