The atomic layer deposition (ALD) synthesis of copper-tin sulfide thin films using low-cost precursors - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

The atomic layer deposition (ALD) synthesis of copper-tin sulfide thin films using low-cost precursors

Abstrakt

Cytowania

  • 4

    CrossRef

  • 0

    Web of Science

  • 4

    Scopus

Autorzy (9)

  • Zdjęcie użytkownika  Marcin Witkowski

    Marcin Witkowski

  • Zdjęcie użytkownika  Zbigniew Starowicz

    Zbigniew Starowicz

  • Zdjęcie użytkownika  Adam Zięba

    Adam Zięba

  • Zdjęcie użytkownika  Bogusława Adamczyk-Cieślak

    Bogusława Adamczyk-Cieślak

  • Zdjęcie użytkownika  Robert Socha

    Robert Socha

  • Zdjęcie użytkownika  Oliwia Szawcow

    Oliwia Szawcow

  • Zdjęcie użytkownika  Grzegorz Kołodziej

    Grzegorz Kołodziej

  • Zdjęcie użytkownika dr inż. Maciej Haras

    Maciej Haras dr inż.

  • Zdjęcie użytkownika  Jakub Ostapko

    Jakub Ostapko

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
NANOTECHNOLOGY nr 33, wydanie 50,
ISSN: 0957-4484
ISSN:
0957-4484
Rok wydania:
2022
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1088/1361-6528/ac9065
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 2 razy

Meta Tagi