The atomic layer deposition (ALD) synthesis of copper-tin sulfide thin films using low-cost precursors
Abstrakt
Cytowania
-
4
CrossRef
-
0
Web of Science
-
4
Scopus
Autorzy (9)
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
NANOTECHNOLOGY
nr 33,
wydanie 50,
ISSN: 0957-4484 - ISSN:
- 0957-4484
- Rok wydania:
- 2022
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1088/1361-6528/ac9065
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 2 razy