Opis
This dataset contains the Scanning Electron Microscopy (SEM) micrographs taken for rich boron-doped carbon nanowalls structures, with different boron addition during the synthesis process and different CVD synthesis duration. The [B]/[C] ratios in the plasma were set to 0k, 1.2k, 2k and 5k ppm. The time of growth was ranging between 4 and 9 hours. This information is coded in the filename: TIME_[B]/[C]_NW.
The micrographs were made using Hitachi S-3400N SEM microscope in secondary electron mode under 20 kV accelerating voltage. No additional pre-treatment procedure was used.
Full physicochemical studies on this novel material may be found in Journal of Physical Chemistry C article: 10.1021/acs.jpcc.7b06365
Plik z danymi badawczymi
NanoWalle.rar
58.4 MB,
S3 ETag
6d63356e062d27c5d4dba54249eb5815-1,
pobrań: 73
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count}
gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcieCC BYUznanie autorstwa
- Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2020
- Data zatwierdzenia:
- 2020-12-17
- Data wytworzenia:
- 2016
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/cqsn-jx60 otwiera się w nowej karcie
- Finansowanie:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 187 razy