Opis
The DataSet contains the XRD patterns of V2O5 thin films deposited on a quartz glass substrate. The as-prepared thin films were annealing under an oxidizing atmosphere in the temperature range 200-600C. The results show that the structure of the films dependent on the annealing temperature.
X-ray diffraction patterns (XRD) were collected on a Philips X’PERT PLUS diffractometer with Cu Ka radiation (1.5406 Å) and ranging from 10 to 80 degrees.
These results are part of a project defined in the Journal of Nanomaterials. In this paper, the information about samples and synthesis details are reported.
Plik z danymi badawczymi
XRD SiO2.zip
33.6 kB,
S3 ETag
6ad40764f8128c9dcc75449f5a9bfe41-1,
pobrań: 82
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count}
gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcieCC BYUznanie autorstwa
- Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
- Oprogramowanie:
- HighScore Plus
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2015
- Data zatwierdzenia:
- 2021-05-24
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/8a6k-pz51 otwiera się w nowej karcie
- Seria:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
- publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method
- publikacja Struktury nanokrystaliczne w układzie V O: wytwarzanie i właściwości
- dane badawcze SEM micrographs of morphology evolution of V2O5 thin films on quartz glass
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 143 razy