XRD patterns of V2O5 thin films deposited on quartz glass - Open Research Data - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

XRD patterns of V2O5 thin films deposited on quartz glass

Opis

The DataSet contains the XRD patterns of V2O5 thin films deposited on a quartz glass substrate. The as-prepared thin films were annealing under an oxidizing atmosphere in the temperature range 200-600C. The results show that the structure of the films dependent on the annealing temperature.

X-ray diffraction patterns (XRD) were collected on a Philips X’PERT PLUS diffractometer with Cu Ka radiation (1.5406 Å) and ranging from 10 to 80 degrees.

These results are part of a project defined in the Journal of Nanomaterials. In this paper, the information about samples and synthesis details are reported.  

 

 

Plik z danymi badawczymi

XRD SiO2.zip
33.6 kB, S3 ETag 6ad40764f8128c9dcc75449f5a9bfe41-1, pobrań: 81
Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
pobierz plik XRD SiO2.zip

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:
Creative Commons: by 4.0 otwiera się w nowej karcie
CC BY
Uznanie autorstwa
Dane surowe:
Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Oprogramowanie:
HighScore Plus

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:
2015
Data zatwierdzenia:
2021-05-24
Język danych badawczych:
angielski
Dyscypliny:
  • inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
DOI:
Identyfikator DOI 10.34808/8a6k-pz51 otwiera się w nowej karcie
Seria:
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Powiązane zasoby

Cytuj jako

wyświetlono 137 razy