XRD patterns of VO2 and V2O3 thin films obtained at 500°C

Opis

The DataSet contains the XRD patterns of VO2 and V2O3 thin films obtained by the sol-gel method. The information about sol synthesis is described in the Journal of Nanomaterials. The thin films with different thicknesses (3-9 AsP layers) were deposited on a silicon substrate and were annealing at 500°C under an argon atmosphere.

X-ray diffraction patterns (XRD) were collected on a Philips X’PERT PLUS diffractometer with Cu Ka radiation (1.5406 Å) and ranging from 10 to 80 degrees.

Plik z danymi badawczymi

Ar500.zip

41.6 kB, S3 ETag 0f50b09f605bdba36c097f6890a127fe-1, pobrań: 63

Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

pobierz

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:: otwiera się w nowej karcie

CC BY

Uznanie autorstwa
Dane surowe:: Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:

2021

Data zatwierdzenia:

2021-07-13

Język danych badawczych:

angielski

Dyscypliny:

inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)

DOI:

10.34808/7v8m-2340

Seria:

Vanadium oxides

Weryfikacja:

Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Powiązane zasoby

publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 161 razy

Wyszukiwarka