Wyszukiwarka
Opis
The DataSet contains the XRD patterns of VO2 and V6O13 thin films deposited on a silicon substrate. The as-prepared thin films were annealing under a reducing atmosphere (94% Ar, 6% H2) at 500, 600 and 700C for 10h.
X-ray diffraction patterns (XRD) were collected on a Philips X’PERT PLUS diffractometer with Cu Ka radiation (1.5406 Å) and ranging from 10 to 80 degrees.
The information about the preparation of as-prepared thin film is described in the Journal of Nanomaterials.
Plik z danymi badawczymi
XRD.zip
22.3 kB,
S3 ETag
7eca8b6364e9233aceca31ab4b665d64-1,
pobrań: 72
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
- Oprogramowanie:
- HighScore Plus
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2015
- Data zatwierdzenia:
- 2021-05-25
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/yt18-7224 otwiera się w nowej karcie
- Seria:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
- publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method
- publikacja Struktury nanokrystaliczne w układzie V O: wytwarzanie i właściwości
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 168 razy