Phononic engineering of silicon using “dots on the fly” e-beam lithography and plasma etching - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Phononic engineering of silicon using “dots on the fly” e-beam lithography and plasma etching

Abstrakt

Cytowania

  • 1 1

    CrossRef

  • 0

    Web of Science

  • 1 4

    Scopus

Autorzy (5)

  • Zdjęcie użytkownika  S. Monfray

    S. Monfray

  • Zdjęcie użytkownika  Valeria Lacatena

    Valeria Lacatena

  • Zdjęcie użytkownika  Jean-Frnacois Robillard

    Jean-Frnacois Robillard

  • Zdjęcie użytkownika  Thomas Skotnicki

    Thomas Skotnicki

  • Zdjęcie użytkownika  Emmanuel Dubois

    Emmanuel Dubois

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
MICROELECTRONIC ENGINEERING nr 121, strony 131 - 134,
ISSN: 0167-9317
ISSN:
01679317
Rok wydania:
2014
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.mee.2014.04.034
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 10 razy

Meta Tagi