Spectroscopic study of the decomposition process of tetramethylsilane in the N2–H2 and N2–Ar low pressure plasma - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Spectroscopic study of the decomposition process of tetramethylsilane in the N2–H2 and N2–Ar low pressure plasma

Abstrakt

Cytowania

  • 8

    CrossRef

  • 8

    Web of Science

  • 8

    Scopus

Cytuj jako

Autorzy (3)

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
DIAMOND AND RELATED MATERIALS nr 14, wydanie 9, strony 1498 - 1507,
ISSN: 0925-9635
ISSN:
0925-9635
Rok wydania:
2005
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.diamond.2005.03.008
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 0 razy

Meta Tagi