Wyszukiwarka
Spectroscopic study of the decomposition process of tetramethylsilane in the N2–H2 and N2–Ar low pressure plasma
Abstrakt
Cytowania
-
9
CrossRef
-
0
Web of Science
-
9
Scopus
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- Publikacja w czasopiśmie
- Opublikowano w:
-
DIAMOND AND RELATED MATERIALS
nr 14,
wydanie 9,
strony 1498 - 1507,
ISSN: 0925-9635 - ISSN:
- 0925-9635
- Rok wydania:
- 2005
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.diamond.2005.03.008
- Weryfikacja:
- Brak weryfikacji
wyświetlono 61 razy