The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al 2 O 3 thin films - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al 2 O 3 thin films

Abstrakt

Cytowania

  • 0

    CrossRef

  • 0

    Web of Science

  • 3

    Scopus

Autor (1)

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
OPTICA APPLICATA
ISSN: 0078-5466
Rok wydania:
2015
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.5277/oa150412
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 16 razy

Meta Tagi