Wyszukiwarka
Opis
The DataSet contains the XRD patterns of V2O5 coatings on the silicon substrate after thermal treatment under a reducing atmosphere. Thin films were annealed at 500C, 600C, and 700C for 10 under a reducing atmosphere (94% Ar, 6% H2).
The surface morphologies of the samples were studied by an FEI Company Quanta FEG 250 scanning electron microscope (SEM) (Waltham, MA, USA), mounting the analyzed sample on a carbon conductive tape.
The as-prepared thin film was annealed at 300C under oxidizing atmosphere for 10h, the information about thin film preparation is described in the Journal of Nanomaterials.
Plik z danymi badawczymi
XRD.zip
22.8 kB,
S3 ETag
7f62a24aba30c3641d82b6b3dc894758-1,
pobrań: 16
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2015
- Data zatwierdzenia:
- 2021-05-25
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/3g4r-cy55 otwiera się w nowej karcie
- Seria:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
- publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method
- publikacja Struktury nanokrystaliczne w układzie V O: wytwarzanie i właściwości
- dane badawcze SEM micrographs of the V2O5 coatings after thermal treatment under reducing atmosphere
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 51 razy