Wyszukiwarka
XRD patterns of vanadium oxide nanostructures on silicon substrate obtained by V2O5 recrystallization
Opis
The DataSet contains the XRD patterns of vanadium oxide nanostructures on silicon substrates obtained by recrystallization of V2O5 thin films between 800-1200°C under synthetic air. The thin films were obtained by the sol-gel method. The information about sol synthesis is described in the Journal of Nanomaterials.
X-ray diffraction patterns (XRD) were collected on a Philips X’PERT PLUS diffractometer with Cu Ka radiation (1.5406 Å) and ranging from 10 to 80 degrees.
Plik z danymi badawczymi
silicon.zip
39.9 kB,
S3 ETag
ec3c082b15f877c3cb18b9bb6c7cdfd8-1,
pobrań: 67
Hash pliku liczony jest ze wzoru
Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MBPrzykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5
Informacje szczegółowe o pliku
- Licencja:
-
otwiera się w nowej karcie
CC BYUznanie autorstwa - Dane surowe:
- Dane zawarte w datasecie nie zostały w żaden sposób przetworzone.
Informacje szczegółowe
- Rok publikacji:
- 2021
- Data zatwierdzenia:
- 2021-06-22
- Język danych badawczych:
- angielski
- Dyscypliny:
-
- inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)
- DOI:
- Identyfikator DOI 10.34808/keyh-g394 otwiera się w nowej karcie
- Seria:
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
Słowa kluczowe
Powiązane zasoby
- dane badawcze SEM micrographs of vanadium oxide nanostructures obtained by V2O5 recrystallization at 800°C
- dane badawcze SEM micrographs of vanadium oxide nanostructures obtained by V2O5 recrystallization at 1000°C
- dane badawcze SEM micrographs of vanadium oxide nanostructures obtained by V2O5 recrystallization at 1200°C
- publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method
Cytuj jako
Autorzy
wyświetlono 168 razy