Electron attachment to hexafluoropropylene oxide (HFPO) - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Electron attachment to hexafluoropropylene oxide (HFPO)

Abstrakt

We probe the electron attachment in hexafluoropropylene oxide (HFPO), C3F6O, a gas widely used in plasma technologies. We determine the absolute electron attachment cross section using two completely different experimental approaches: (i) a crossed-beam experiment at single collision conditions (local pressures of 5 × 10−4 mbar) and (ii) a pulsed Townsend experiment at pressures of 20–100 mbar. In the latter method, the cross sections are unfolded from the electron attach- ment rate coefficients. The cross sections derived independently by the two methods are in very good agreement. We additionally discuss the dissociative electron attachment fragmentation patterns and their role in the radical production in industrial HFPO plasmas.

Cytowania

  • 8

    CrossRef

  • 8

    Web of Science

  • 9

    Scopus

Cytuj jako

Autorzy (5)

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
artykuł w czasopiśmie wyróżnionym w JCR
Opublikowano w:
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS nr 149, wydanie 20, strony 1 - 7,
ISSN: 0021-9606
Język:
angielski
Rok wydania:
2018
Opis bibliograficzny:
Zawadzki M., Chachereau A., Kočišek J., Franck C., Fedor J.: Electron attachment to hexafluoropropylene oxide (HFPO)// JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS. -Vol. 149, iss. 20 (2018), s.1-7
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1063/1.5051724
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 17 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi