Wyszukiwarka
Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth
Abstrakt
W artykule przedstawiono konstrucję systemu optoelektronicznego do monitoringu ramanowskiego in-situ procesu μPA ECR CVD (ang.: Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition), stosowanego do osadzania cienkich warstw diamentowych i diamentopodobnych DLC. System ma budowę modułową i wyposażony jest w dedykowane sondy optyczne. Przedstawiono wyniki pomiarów testowych, potwierdzjące, że system posiada odpowiednią czułość do badania struktury molekularnej syntetyzowanych materiałów.
Autorzy (5)
Cytuj jako
Pełna treść
pobierz publikację
pobrano 17 razy
- Wersja publikacji
- Accepted albo Published Version
- Licencja
-
otwiera się w nowej karcie
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Photonics Letters of Poland
nr 1,
strony 76 - 78,
ISSN: 2080-2242 - Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2009
- Opis bibliograficzny:
- Gnyba M., Kozanecki M., Kosmowski B., Wroczyński P., Bogdanowicz R.: Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth// Photonics Letters of Poland. -Vol. 1 ., iss. 2 (2009), s.76-78
- Źródła finansowania:
-
- Publikacja bezkosztowa
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 94 razy