Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth

Abstrakt

W artykule przedstawiono konstrucję systemu optoelektronicznego do monitoringu ramanowskiego in-situ procesu μPA ECR CVD (ang.: Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition), stosowanego do osadzania cienkich warstw diamentowych i diamentopodobnych DLC. System ma budowę modułową i wyposażony jest w dedykowane sondy optyczne. Przedstawiono wyniki pomiarów testowych, potwierdzjące, że system posiada odpowiednią czułość do badania struktury molekularnej syntetyzowanych materiałów.

Cytuj jako

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
Opublikowano w:
Photonics Letters of Poland nr 1, strony 76 - 78,
ISSN: 2080-2242
Język:
angielski
Rok wydania:
2009
Opis bibliograficzny:
Gnyba M., Kozanecki M., Kosmowski B., Wroczyński P., Bogdanowicz R.: Long-working-distance Raman system for monitoring of uPA ECR CVD process of thin diamond/DLC layers growth// Photonics Letters of Poland. -Vol. 1 ., iss. 2 (2009), s.76-78
Źródła finansowania:
  • COST_FREE
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 57 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi