Modelowanie procesu wysychania filmu cieczowego na ściance - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Modelowanie procesu wysychania filmu cieczowego na ściance

Abstrakt

Zaprezentowany w pracy teoretyczny model kryzysu wrzenia przy wysokich stopniach suchości jest modyfikacją wcześniejszej wersji przedstawionej przez Sedlera i Mikielewicza (1981). Model używany do analizy procesu wysychania filmu cieczowego na ściance, pozwala także na sformułowanie równań bilansu masy cieczy w filmie i w rdzeniu. Rozwiązanie układu równań zawiera parametry, które wyznaczane są eksperymentalnie. W niniejszej pracy model dodatkowo uzupełniono równaniem energii dla filmu, gdzie szybkość dostarczania ciepła do filmu jest bardzo ważnym aspektem w procesie wysychania filmu cieczowego w przepływie pierścieniowym. W wyniku wprowadzenia równania energii otrzymuje się liniowy rozkład strumienia ciepła odpowiedzialnego za odparowanie filmu.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Aktywność konferencyjna
Typ:
publikacja w wydawnictwie zbiorowym recenzowanym (także w materiałach konferencyjnych)
Tytuł wydania:
XIII Sympozjum Wymiany Ciepła i Masy, Koszalin - Darłówko, 03-06 września 2007. Tom 2 strony 705 - 712
Język:
polski
Rok wydania:
2007
Opis bibliograficzny:
Mikielewicz D., Mikielewicz J., Wajs J., Gliński M., Zrooga A.: Modelowanie procesu wysychania filmu cieczowego na ściance// XIII Sympozjum Wymiany Ciepła i Masy, Koszalin - Darłówko, 03-06 września 2007. Tom 2/ ed. red. H. Charun Koszalin: Wydaw. Uczeln. Politech. Koszal., 2007, s.705-712
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 73 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi