Moisture damage mechanism and material selection of HMA with amine antistripping agent - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Moisture damage mechanism and material selection of HMA with amine antistripping agent

Abstrakt

Cytowania

  • 2 9

    CrossRef

  • 0

    Web of Science

  • 3 0

    Scopus

Autorzy (6)

  • Zdjęcie użytkownika  Rui Xiao

    Rui Xiao

  • Zdjęcie użytkownika  Yongjie Ding

    Yongjie Ding

  • Zdjęcie użytkownika dr inż. Pawel Polaczyk

    Pawel Polaczyk dr inż.

  • Zdjęcie użytkownika  Yuetan Ma

    Yuetan Ma

  • Zdjęcie użytkownika  Xi Jiang

    Xi Jiang

  • Zdjęcie użytkownika  Baoshan Huang

    Baoshan Huang

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
Publikacja w czasopiśmie
Opublikowano w:
Materials & Design nr 220,
ISSN: 0264-1275
ISSN:
02641275
Rok wydania:
2022
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.matdes.2022.110797
Weryfikacja:
Brak weryfikacji

wyświetlono 12 razy

Meta Tagi