Wyniki wyszukiwania dla: PLASMA CVD

• Prediction of the properties of PVD/CVD coatings with the use of FEM analysis

  Publikacja

  • A. Śliwa
  • J. Mikuła
  • K. Gołombek
  • T. Tański
  • W. Kwaśny
  • M. Bonek
  • Z. Brytan

  - Applied Surface Science - Rok 2016

  Pełny tekst do pobrania w serwisie zewnętrznym

• PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING

  Czasopisma

  ISSN: 0272-4324 , eISSN: 1572-8986

• Robert Bogdanowicz dr hab. inż.

  Osoby

  Katedra Metrologii i Optoelektroniki

  Robert Bogdanowicz received his Ph.D. degree with honours in Electronics from the Gdansk University of Technology. He worked as a post-doc researcher in Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Institut für Physik. He has initiated optical emission imaging of muti-magnetron pulsed plasma and contributed to the development of antibacterial implant coatings deposited by high-power impulse magnetron sputtering. He moved back to...

• PLANTA MEDICA

  Czasopisma

  ISSN: 0032-0943 , eISSN: 1439-0221

• The Problems of Application of PVD/CVD Thin Hard Coatings for Heavy-Loaded Machine Components

  Publikacja

  • M. Szczerek
  • R. Michalczewski
  • W. Piekoszewski

  - Rok 2007

  Pełny tekst do pobrania w serwisie zewnętrznym

• Plasma Medicine

  Czasopisma

  ISSN: 1947-5764 , eISSN: 1947-5772

• CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS

  Czasopisma

  ISSN: 0863-1042 , eISSN: 1521-3986

• RAMAN DIAGNOSTICS OF CVD DIAMOND GROWTH

  Publikacja

  • M. Gnyba

  - Rok 2012

  Development of Raman spectroscopic system for diagnostics of growth of diamond and BDD (Boron- Doped-Diamond) thin films during μPA CVD (Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) process is described. Raman studies of such films were carried out as in-situ monitoring of film deposition as ex-situ measurements conducted for a sample outside the reaction vessel after manufacturing process. Modular system for the in-situ...

  Pełny tekst do pobrania w portalu

• Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej. Diagnostics of CVD process by means of optical emission spectroscopy.

  Publikacja

  • P. Wroczyński
  • M. Gnyba
  • R. Bogdanowicz

  - Rok 2004

  Zastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania z par gazowych wspomaganego plazmą mikrofalową (mPACVD). Zbudowano tor światłowodowy, umożliwiający sprzężenie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne...

• NURT SVD

  Czasopisma

  ISSN: 1233-9717