Nie znaleźliśmy wyników w zadanych kryteriach!
Ale mamy wyniki w innych katalogach.Filtry
wszystkich: 4748
-
Katalog
- Publikacje 1974 wyników po odfiltrowaniu
- Czasopisma 48 wyników po odfiltrowaniu
- Konferencje 1 wyników po odfiltrowaniu
- Wydawnictwa 1 wyników po odfiltrowaniu
- Osoby 59 wyników po odfiltrowaniu
- Wynalazki 5 wyników po odfiltrowaniu
- Projekty 14 wyników po odfiltrowaniu
- Laboratoria 2 wyników po odfiltrowaniu
- Zespoły Badawcze 4 wyników po odfiltrowaniu
- Aparatura Badawcza 1 wyników po odfiltrowaniu
- Kursy Online 248 wyników po odfiltrowaniu
- Wydarzenia 25 wyników po odfiltrowaniu
- Dane Badawcze 2366 wyników po odfiltrowaniu
wyświetlamy 1000 najlepszych wyników Pomoc
Wyniki wyszukiwania dla: PLASMA CVD
-
Prediction of the properties of PVD/CVD coatings with the use of FEM analysis
Publikacja -
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
Czasopisma -
Robert Bogdanowicz dr hab. inż.
OsobyRobert Bogdanowicz received his Ph.D. degree with honours in Electronics from the Gdansk University of Technology. He worked as a post-doc researcher in Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Institut für Physik. He has initiated optical emission imaging of muti-magnetron pulsed plasma and contributed to the development of antibacterial implant coatings deposited by high-power impulse magnetron sputtering. He moved back to...
-
PLANTA MEDICA
Czasopisma -
The Problems of Application of PVD/CVD Thin Hard Coatings for Heavy-Loaded Machine Components
Publikacja -
Plasma Medicine
Czasopisma -
CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS
Czasopisma -
RAMAN DIAGNOSTICS OF CVD DIAMOND GROWTH
PublikacjaDevelopment of Raman spectroscopic system for diagnostics of growth of diamond and BDD (Boron- Doped-Diamond) thin films during μPA CVD (Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) process is described. Raman studies of such films were carried out as in-situ monitoring of film deposition as ex-situ measurements conducted for a sample outside the reaction vessel after manufacturing process. Modular system for the in-situ...
-
Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej. Diagnostics of CVD process by means of optical emission spectroscopy.
PublikacjaZastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania z par gazowych wspomaganego plazmą mikrofalową (mPACVD). Zbudowano tor światłowodowy, umożliwiający sprzężenie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne...
-
NURT SVD
Czasopisma