XRD patterns of V2O5 thin films deposited on silicon substrate

Opis

The DataSet contains the XRD patterns of V2O5 thin films deposited on a silicon substrate. The as-prepared thin films were annealing under an oxidizing atmosphere in the temperature range of 300-600C. The results show that the structure of the films dependent on the annealing temperature.

X-ray diffraction patterns (XRD) were collected on a Philips X’PERT PLUS diffractometer with Cu Ka radiation (1.5406 Å) and ranging from 10 to 80 degrees.

These results are part of a project defined in the Journal of Nanomaterials. In this paper, the information about samples and synthesis details are reported.

Plik z danymi badawczymi

XRD Si.zip

52.6 kB, S3 ETag 159f1d839086cc51e0dfcac0f3023d11-1, pobrań: 52

Hash pliku liczony jest ze wzoru
hexmd5(md5(part1)+md5(part2)+...)-{parts_count} gdzie pojedyncza część pliku jest wielkości 512 MB

Przykładowy skrypt do wyliczenia:
https://github.com/antespi/s3md5

pobierz

Informacje szczegółowe o pliku

Licencja:: otwiera się w nowej karcie

CC BY

Uznanie autorstwa
Oprogramowanie:: HighScore Plus

Informacje szczegółowe

Rok publikacji:

2015

Data zatwierdzenia:

2021-05-24

Język danych badawczych:

angielski

Dyscypliny:

inżynieria materiałowa (Dziedzina nauk inżynieryjno-technicznych)

DOI:

10.34808/e4hw-ed56

Seria:

Vanadium oxides

Weryfikacja:

Politechnika Gdańska

Słowa kluczowe

Powiązane zasoby

publikacja The influence of thermal conditions on V2O5 nanostructures prepared by sol-gel method
publikacja Struktury nanokrystaliczne w układzie V O: wytwarzanie i właściwości
dane badawcze SEM micrographs of morphology evolution of V2O5 thin films on silicon substrate
dane badawcze Chemical composition of V2O5 nanorods

Cytuj jako

Autorzy

wyświetlono 141 razy

Wyszukiwarka