Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices. - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.

Abstrakt

Przedstawiono skrótowo system do ostrzowych pomiarów szumów struktur submikronowych. Znaczny wpływ na pomiary ostrzowe mają zakłócenia i szumy własne systemu, zwłaszcza zakłócenia o wysokim poziomie wpraowadzane przez ostrza (fluktuacje rezystancji styków ostrza do struktury powodowane przez wibracje i udary mechaniczne w środowisku pomiarowym)i środowisko elektromagnetyczne. Zakłócenia okresowe powodowane przez wibracje i pola elektromagnetyczne mogą być separowane od mierzonych szumów. Przebiegi są rejestrowane jako sekwencje rekordów czasowych o czasach trwania będących wielokrotnością okresu sygnału zakłócającego i są sumowane koherentnie a następnie odejmowane od zarejestrowanych danych. Umożliwia to analizę składowych losowych i okresowych sygnału oddzielnie.

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
Język:
angielski
Rok wydania:
2004
Opis bibliograficzny:
Spiralski L., Szewczyk A., Hasse L.: Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.// . -., (2004), s.0-0
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 15 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi