Wyszukiwarka
Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.
Abstrakt
Przedstawiono skrótowo system do ostrzowych pomiarów szumów struktur submikronowych. Znaczny wpływ na pomiary ostrzowe mają zakłócenia i szumy własne systemu, zwłaszcza zakłócenia o wysokim poziomie wpraowadzane przez ostrza (fluktuacje rezystancji styków ostrza do struktury powodowane przez wibracje i udary mechaniczne w środowisku pomiarowym)i środowisko elektromagnetyczne. Zakłócenia okresowe powodowane przez wibracje i pola elektromagnetyczne mogą być separowane od mierzonych szumów. Przebiegi są rejestrowane jako sekwencje rekordów czasowych o czasach trwania będących wielokrotnością okresu sygnału zakłócającego i są sumowane koherentnie a następnie odejmowane od zarejestrowanych danych. Umożliwia to analizę składowych losowych i okresowych sygnału oddzielnie.
Cytuj jako
Pełna treść
pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2004
- Opis bibliograficzny:
- Spiralski L., Szewczyk A., Hasse L.: Techniques of interference reduction in probe system for wafer level noise measurements of submicron semiconductor devices.// . -., (2004), s.0-0
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 111 razy