Wyszukiwarka
Abstrakt
Interferometry is a desirable method for in-situ measurement of thin, dielectric film growth, as it don't modify conditions of film deposition. Here we present interferometrical measurements of thickness of doped diamond films during Chemical Vapor Deposition (CVD) process. For this purpose we used a semiconductor laser with a 405nm wavelength. Additional ex-situ measurement using spectral interferometry and ellipsometry have been performed. We found that doping diamond with boron does not cause degradation of interference of light inside the film. To our knowledge, this is the first study of optical monitoring of boron doped, polycrystalline diamond films deposition.
Cytuj jako
Pełna treść
pobierz publikację
pobrano 26 razy
- Wersja publikacji
- Accepted albo Published Version
- Licencja
-
otwiera się w nowej karcie
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Photonics Letters of Poland
nr 5,
strony 140 - 142,
ISSN: 2080-2242 - Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2013
- Opis bibliograficzny:
- Kraszewski M., Bogdanowicz R.: In-situ optical diagnostics of boron-doped diamond films growth// Photonics Letters of Poland. -Vol. 5., nr. 4 (2013), s.140-142
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 120 razy