Optical and chemical characterization of thin TiNx films deposited by DC-magnetron sputtering - Publikacja - MOST Wiedzy

Wyszukiwarka

Optical and chemical characterization of thin TiNx films deposited by DC-magnetron sputtering

Abstrakt

Thin titanium nitride (tinx) films were deposited on silicon substrates by means of a reactive dc-magnetron plasma. Layers were synthesized under various conditions of discharge power and nitrogen flows in two operation modes of the magnetron (the so-called "balanced" and "unbalanced" modes). The optical constants of the tinx films were investigated by spectroscopic ellipsometry (se). X-ray photoelectron spectroscopy (xps) was used to determine the relative atomic concentration and chemical states of the tinx films. The density and thickness of the films have been investigated by means of grazing incidence x-ray reflectometry (gixr). The results of the layer analyses were combined with plasma investigations carried out by means of energy resolved mass spectrometry (erms) under the same conditions. It is shown that the magnetron mode has a clear influence on the titanium deposition rate and the incorporation of nitrogen into the layers.

Cytowania

  • 1 0

    CrossRef

  • 1 0

    Web of Science

  • 1 0

    Scopus

Cytuj jako

Pełna treść

pełna treść publikacji nie jest dostępna w portalu

Słowa kluczowe

Informacje szczegółowe

Kategoria:
Publikacja w czasopiśmie
Typ:
artykuł w czasopiśmie z listy filadelfijskiej
Opublikowano w:
VACUUM nr 82, strony 1115 - 1119,
ISSN: 0042-207X
Język:
angielski
Rok wydania:
2008
Opis bibliograficzny:
Wrehde S., Quaas M., Bogdanowicz R., Hartmut S., Wulff H., Hippler R.: Optical and chemical characterization of thin TiNx films deposited by DC-magnetron sputtering// VACUUM. -Vol. 82., nr. nr 10 (2008), s.1115-1119
DOI:
Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.1016/j.vacuum.2008.01.028
Weryfikacja:
Politechnika Gdańska

wyświetlono 54 razy

Publikacje, które mogą cię zainteresować

Meta Tagi