Wyszukiwarka
Abstrakt
Development of the optoelectronic system for non-invasive monitoring of diamond/DLC (Diamond-Like-Carbon) thin films growth during μPA ECR CVD (Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition) process is described. The system uses multi-point Optical Emission Spectroscopy (OES) and long-working-distance Raman spectroscopy. Dissociation of H2 molecules, excitation and ionization of hydrogen atoms as well as spatial distribution of the molecules are subjects of the OES investigation. The most significant parameters of the deposited film like molecular composition of the film can be investigated by means of Raman spectroscopy. Results of optoelectronic
Cytowania
-
0
CrossRef
-
0
Web of Science
-
0
Scopus
Autorzy (3)
Cytuj jako
Pełna treść
pobierz publikację
pobrano 14 razy
- Wersja publikacji
- Accepted albo Published Version
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.2478/v10077-009-0015-z
- Licencja
-
otwiera się w nowej karcie
Słowa kluczowe
Informacje szczegółowe
- Kategoria:
- Publikacja w czasopiśmie
- Typ:
- artykuły w czasopismach recenzowanych i innych wydawnictwach ciągłych
- Opublikowano w:
-
Advances in Materials Science
nr 9,
strony 47 - 53,
ISSN: 1730-2439 - Język:
- angielski
- Rok wydania:
- 2009
- Opis bibliograficzny:
- Wroczyński P., Bogdanowicz R., Gnyba M.: Optoelectronic system for investigation of cvd diamond/DLC layers growth// Advances in Materials Science. -Vol. 9., nr. iss. 3=21 (2009), s.47-53
- DOI:
- Cyfrowy identyfikator dokumentu elektronicznego (otwiera się w nowej karcie) 10.2478/v10077-009-0015-z
- Weryfikacja:
- Politechnika Gdańska
wyświetlono 125 razy